Tento účinný gel poskytuje koncentrovanou péči, když ji pleť nejvíce potřebuje. Je vhodný pro citlivou pleť a k použití po laserových ošetřeních nebo kyselinových peelinzích.* Obsahuje několik výtažků z rostliny Centella Asiatica (Cica 3 Complex) pro intenzivní zklidnění, jakož i peptid Fensibiome a Alpaflor™ Scutellaria CB k obnovení bariéry. Lehká gelová textura hydratuje, vyhlazuje a snadno se roztírá po pleti. Aplikujte na oblasti s viditelným podrážděním nebo na celý obličej. Nelepivá, nemastná formule zanechává čistý pocit a lze ji nosit i pod make-up.

*Dvoutýdenní klinické uživatelské testy prokázaly, že produkt lze bezpečně používat po ošetření peelingem kyselinou glykolovou nebo po IPL ošetření (Intense Pulsed Light).
Ošetření kyselinovým peelingem nebo Intense Pulsed Light (IPL) ošetření v dvoutýdenních klinických uživatelských testech.

Vhodné pro typy pleti:

• Normální pleť
• Všechny typy pleti

Údaje o výrobci

Korean Skincare B.V.

info@korean-skincare.de

ATER\AQUA\EAU, GLYCERIN, CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE, RICINUS COMMUNIS (CASTOR) SEED OIL, SILICA, CETYL ALCOHOL, PROPANEDIOL, DICAPRYLYL ETHER, DIPROPYLENE GLYCOL, POLYGLYCERYL-3 METHYLGLUCOSE DISTEARATE, 1,2-HEXANEDIOL, PENTYLENE GLYCOL, AMMONIUM ACRYLOYLDIMETHYLTAURATE/ VP COPOLYMER, GLYCERYL STEARATE, C14-22 ALCOHOLS, CAPRYLIC/ CAPRIC/MYRISTIC/STEARIC TRIGLYCERIDE STEARIC TRIGLYCERIDE, SYNTHETIC BEESWAX, CETEARYL OLIVATE, SORBITAN OLIVATE, GLYCERYL CAPRYLATE, SCUTELLARIA ALPINA FLOWER/LEAF/STEM EXTRACT, THEOBROMA CACAO (COCOA) SEED EXTRACT, CENTELLA ASIATICA LEAF EXTRACT, ASIATICOSIDE, MADECASSIC ACID, ASIATIC ACID, CAPRYLYL GLYCOL, BACILLUS FERMENT, ACETYL
HEPTAPEPTIDE-4, COPERNICIA CERIFERA (CARNAUBA) WAX\COPERNICIA CERIFERA CERA\CIRE DE CARNAUBA, POLY C10-30 ALKYL ACRYLATE, XANTHAN GUM, CITRIC ACID, MYRISTIC ACID, DEXTRIN, C12-20 ALKYL GLUCOSIDE, PALMITIC ACID, STEARIC ACID, ARACHIDIC ACID, OLEIC ACID, FRAGRANCE (PARFUM), SODIUM PHYTATE, MADECASSOSIDE, TOCOPHEROL, BLUE 1 (CI 42090), YELLOW 5 (CI 19140)

Nanášejte dle potřeby dvakrát denně po čištění.