Dr. Althea 345 Relief Cream Mask er en cremet maske med Centella Asiatica, ceramider og hyaluronsyre, der intensivt beroliger og fugter din hud. Den rige cremete tekstur trænger blidt ind og efterlader en behagelig, velplejet følelse på huden.

Kernen i formlen er et omfattende Centella Asiatica-kompleks bestående af bladvand og ekstrakt, der sammen med madecassosid beroliger og styrker huden. Tea tree-vand supplerer den beroligende virkning, mens ceramid NP og kolesterol styrker hudbarrieren. Et helt netværk af hyaluronsyre i forskellige former sørger sammen med glycerin og panthenol for, at huden mærkbart binder fugt. Resveratrol og lotusbladekstrakt bidrager til et generelt mere vitalt hudbillede, mens sojabønneekstrakt og beta-glucan yderligere understøtter huden. Niacinamid afrunder virkningen og bidrager til et mere jævnt hudbillede.

Denne stofmaske er velegnet til alle hudtyper, der længes efter en beroligende ekstra portion fugt – især ved følsom eller irriteret hud viser kombinationen af Centella Asiatica og ceramider sine styrker. Takket være den rige, men let absorberende formel er den også velegnet til tør hud.

Aktive ingredienser

• Centella Asiatica-bladvand: beroliger huden
• Centella Asiatica-ekstrakt: beroliger huden
• Madecassosid: beroliger huden
• Tea tree-vand: beroliger huden
• Ceramid NP: styrker hudbarrieren
• Kolesterol: styrker hudbarrieren
• Hyaluronsyre: fugter
• Glycerin: fugter
• Panthenol: fugter
• Resveratrol: bidrager til et mere vitalt hudbillede
• Lotusbladekstrakt: bidrager til et mere vitalt hudbillede
• Sojabønneekstrakt: understøtter huden
• Beta-glucan: understøtter huden
• Niacinamid: gør hudbilledet mere ensartet

Velegnet til hudtyper:

• Følsom hud
• Alle hudtyper
• Tør hud

Aqua, Melaleuca Alternifolia Water, Methylpropanediol, 1,2-Hexanediol, Butylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, Octyldodeceth-16, Triethylhexanoin, Caprylic/Capric Triglyceride, Pentylene Glycol, Carbomer, Hydroxyethylcellulose, Tromethamine, Allantoin, Trehalose, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Dipotassium Glycyrrhizate, Disodium EDTA, Panthenol, Glycine Soja Seed Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Pantothenic Acid, Centella Asiatica Leaf Water, Cyclodextrin, Centella Asiatica Extract, Hydrogenated Lecithin, Madecassoside, Ceramide NP, Cholesterol, Camellia Sinensis Leaf Water, Resveratrol, Beta-Glucan, Sodium DNA, Nelumbo Nucifera Leaf Extract

Efter rensning tages masken ud af posen og placeres, så den passer til ansigtsformen. Fjern den efter 10–15 minutter, og klapp den resterende essence forsigtigt ind i huden for at forbedre optagelsen.